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近年来，英特尔的芯片制造技术已被台积电和三星等竞争对手赶超，但该公司正寻求将其麻烦抛在脑后。向前迈出的第一步将是英特尔 4 制造工艺，英特尔在电气和电子工程师协会的年度 VLSI 技术研讨会上分享了更多细节(据AnandTech和Tom's Hardware报道)。新的制造技术有望在 2023 年开始用于消费类芯片，从英特尔的“流星湖”CPU 架构开始。Meteor Lake 很可能会在明年某个时候作为英特尔的第 14 代酷睿 CPU 上市。

Intel 4 最大的改进在于它集成了极紫外 (EUV) 光刻技术，它使用短波长紫外光将微小的图案蚀刻到硅晶片上。台积电和三星在其最先进的制造工艺中使用 EUV 技术。英特尔表示，与英特尔 7 工艺相比，英特尔 4 将使用相同的功率使时钟速度提高 21.5%，或者使用减少 40% 的功率实现相同的速度。

在 Intel 4 之后，Intel 将转向 Intel 3，这是 Intel 4 的更高密度迭代，使用相同的 EUV 技术。值得注意的是，芯片制造商将能够将针对英特尔 4 的设计直接移植到英特尔 3 而无需进行更改，这有望让英特尔和第三方芯片设计人员快速开始使用它(英特尔 3 将通过以下方式提供给第三方)英特尔代工服务)。通过在工艺技术之间进行更小的跳跃——在英特尔 4 中引入 EUV 光刻，然后在英特尔 3 中优化最大密度，而不是试图同时进行这两种技术——英特尔希望避免 10nm/英特尔 7 工艺的延迟和良率问题回来这么多年。

由于其 14nm 和 10nm 工艺节点的大量延迟，英特尔在 2010 年代中期很大程度上打破了其制造领先地位。10nm 芯片在三代 CPU 中停顿推出，其最新的第 12 代酷睿芯片终于让公司的整个消费类笔记本电脑和台式机 CPU 阵容多年来第一次重新采用相同的架构和制造工艺。 英特尔发布了一项旨在帮助其赶上竞争对手 的多年计划，但我们对该计划持保留态度，直到英特尔证明它可以克服其执行问题。

该公司已经从政府那里获得了一些投资，政府正试图推动国内芯片制造。 英特尔去年从国防部获得了一份价值 1 亿美元的芯片制造合同的一部分，一项旨在促进国内芯片制造的两党 520 亿美元的法案正在国会审议中(尽管截至本文撰写时， 其未来似乎还不确定)。